产品特点:
英国牛津 离子束设备 - Ionfab 300Plus介绍
Ionfab 300Plus是模块化的离子束(Ion Beam)刻蚀和沉积系统,是用离子束的方法对样片进行刻蚀和溅射沉积,从而达到高准确度、高精度的客户要求。最大直径8英寸,厚度最高达8.5mm的多种类型样片可以被自动进片系统装入反应室,带积分中和的15cm离子源使产品的均匀性得到巨大的提高。
Ionfab300Plus被设计成一个模块化的离子束系统,用于离子束刻蚀和离子束镀膜。
它已经被广泛应用于各种类型的工艺研究和生产,特别在半导体行业和光学镀膜领域得到了广泛应用。
离子束设备 Plasmalab Ionfab300Plus 产品介绍
该设备可以被配置成:
离子束设备 Plasmalab Ionfab300Plus 典型应用:
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