光普 X荧光光谱仪EDX8000

产品特点：

光普 X荧光光谱仪EDX8000介绍

高精密定位测量系统，用于RoHS检测和镀层检测。在镀层检测中，该款仪器可以惊奇地逐点测试被测对象，并给出完整的含量和镀层的平面分析图谱。

X荧光光谱仪EDX8000技术指标:


分析精度: 0.05%
分析含量范围：1PPM-99.99%
测量元素：从硫至铀等75种元素
测量对象：粉末、固体、液体
               分析电镀溶液中金属离子浓度
               可分析10层以上的镀层
测试镀层最薄至0.005um
步进最小距离：0.01mm
测量时间：60～300秒
工作温度：15～30°C
相对湿度：< 70%
重量：30KG
工作电压：AC 110/220V

X荧光光谱仪EDX8000配置：
 
单样品腔计
算机、喷墨打印机
硅针半导体探测器
放大电路
高低压电源
X光管
双激光定位系统
50至100倍物体放大